电子材料, Electronic Materials

包括：自组装和接触压印材料、无机和金属纳米材料、OFET和OPV材料、电子化学品和蚀刻剂、碳纳米材料、光子与光学材料、OLED和PLED材料、基材和预制电子器件、有机硅材料、特种和智能聚合物、印刷电子材料、液晶材料、官能化纳米粒子、量子点、碳纳米材料、氮化硼纳米管、钙钛矿材料等。我们的生物医学材料包括可降解聚合物、天然聚合物、嵌段共聚物、水凝胶和PEG。高性能能源材料和电子材料兼具先进的半导电容和能量密度。高纯度金属盐、沉积前体、金属、合金、氧化物、单体、聚合物、引发剂及其他聚合工具可确保您合成高质量的材料。

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三氟化硼-甲醇溶液，Boron trifluoride-methanol solution [BF-M]；14% in methanol

B1252

别名：三氟硼烷；Trifluoroborane；线性分子式: BF3 · MeOH CAS号: 373-57-9 分子量: 99.85 Beilstein/REAXYS Number: 3611499 MDL编号: MFCD00071635 PubChem化学物质编号: 57653917 NACRES: NA.23

¥889.47

三氟化硼-甲醇溶液，Boron trifluoride-methanol solution [BF-M]；~10% (~1.3 M), for GC derivatization, LiChropur™

15716

别名：三氟硼烷；Trifluoroborane；线性分子式: BF3 · MeOH CAS号: 373-57-9 分子量: 99.85 Beilstein/REAXYS Number: 3611499 EC 号: 206-766-4 MDL编号: MFCD00071635 PubChem化学物质编号: 329750982 NACRES: NA.05

¥789.51

三氟化硼-甲醇溶液，Boron trifluoride-methanol solution [BF-M]；50% w/w in methanol

134821

别名：三氟硼烷；Trifluoroborane；线性分子式: BF3 · MeOH CAS号: 373-57-9 分子量: 99.85 Beilstein/REAXYS Number: 3611499 MDL编号: MFCD00071635 PubChem化学物质编号: 24848188

¥986.25

双氢氧化乙二胺铜(II)溶液，Bis(ethylenediamine)copper(II) hydroxide solution；1.0 M in H2O

442305

别名: 亚乙基二胺铜络合物；Copper(II)-ethylenediame complex；线性分子式: Cu(H2NCH2CH2NH2)2(OH)2 CAS号: 14552-35-3 分子量: 217.76 MDL编号: MFCD00274628 PubChem化学物质编号: 24867790 NACRES: NA.23

¥905.43

氯铂酸水合物，Chloroplatinic acid hydrate；~38% Pt basis

81080

别名：水合氯铂酸；六氯铂(IV)酸水合物；氯化铂水合物；Hydrogen hexachloroplatinate(IV) hydrate, Platinic chloride hydrate, Hexachloroplatinic(IV) acid hydrate

线性分子式: H2PtCl6 · xH2O CAS号: 26023-84-7 分子量: 409.81 (anhydrous basis) EC 号: 241-010-7 MDL编号: MFCD00149909 PubChem化学物质编号: 57652846 NACRES: NA.22

¥1,123.65

氯铂酸水合物，Chloroplatinic acid hydrate；≥99.9% trace metals basis

520896

¥1,812.11

氯铂酸水合物，Chloroplatinic acid hydrate；99.995% trace metals basis

254029

¥1,114.43

异丙醇 [2-丙醇]，2-Propanol [IPA]；electronic grade, 99.999% trace metals basis

733458

别名：仲丙醇；异丙醇；sec-Propyl alcohol, IPA, Isopropanol, Isopropyl alcohol

线性分子式: (CH3)2CHOH CAS号: 67-63-0 分子量: 60.10 Beilstein: 635639 EC 号: 200-661-7 MDL编号: MFCD00011674 PubChem化学物质编号: 329764817 NACRES: NA.23

¥920.11

硫，Sulfur；99.998% trace metals basis

213292

别名：高纯硫；超纯硫；化学硫；硫磺；Empirical Formula (Hill Notation)：S； CAS号: 7704-34-9 分子量: 32.07 EC 号: 231-722-6 MDL编号: MFCD00085316 PubChem化学物质编号: 24852677 NACRES: NA.23

¥514.94

硫，Sulfur；powder, 99.98% trace metals basis

414980

别名：高纯硫；超纯硫；化学硫；硫磺；Empirical Formula (Hill Notation)：S； CAS号: 7704-34-9 分子量: 32.07 EC 号: 231-722-6 MDL编号: MFCD00085316 PubChem化学物质编号: 24865968 NACRES: NA.23

¥1,010.28

磷酸，Phosphoric acid；crystalline, ≥99.999% trace metals basis

466123

别名: 正磷酸线性分子式: H3PO4 CAS号: 7664-38-2 分子量: 98.00 Beilstein: 1921286 EC 号: 231-633-2 MDL编号: MFCD00011340 PubChem化学物质编号: 24870329 NACRES: NA.23

¥675.08

铬蚀刻剂，Chromium etchant；standard

651826

硝酸铈铵基蚀刻剂；MDL编号：MFCD07370678；NACRES：NA.23

¥1,208.08